ASMLジャパン、社員を700人へ4割増——ラピダス支援で千歳の常駐人員も倍増、日本の売上比率は5%に

半導体の最先端露光装置を独占的に供給する「1台数百億円。この1社がなければ最先端チップは作れない」ASMLにとって、日本市場の重みが増しています。露光装置が半導体製造のどの工程を担うかは「半導体とは、電気を「通す・通さない」を切り替えられる物質——それだけの性質が世界を動かしている」で解説していますが、今回はその供給側であるASMLの日本法人ASMLジャパンの、大幅な増員計画です。

ASMLジャパンはなぜ増員方針を打ち出したのか

ASMLジャパンは2026年9月3日に記者説明会を開き、社員数を現在の約500人から2030年度をめどに約700人へ拡充する方針を明らかにしました。増員する約200人の大半は、装置の稼働を現場で支えるカスタマーサポート人員が占める見通しです。

露光装置は、導入して終わりではありません。日々の調整・部品交換・トラブル対応まで、専門スタッフが継続的に付き添う必要がある精密機械です。ASMLジャパンの増員は、日本国内で稼働する装置の台数そのものが増えている裏返しだと言えます。

千歳拠点の常駐人員が倍増する背景に何があるのか

北海道千歳のRapidus拠点に常駐する人員は、現在の30人弱から2027年までに50〜60人規模へ倍増させる計画です。

Rapidusは、ASMLのEUV露光装置を使って2025年4月から2nmのパイロット生産（少量の試験生産）を始めています。日本の2nm量産計画については「日本の2nmに国費2兆円が動いた——Rapidusに足りないのは金ではなかった」で扱いましたが、2027年に量産が本格化する見通しにあわせて、現地サポート体制を厚くする狙いです。EUV装置は365日24時間体制でのサポートが求められるため、量産規模が拡大すれば必要な人員も比例して増えます。

日本の売上高がASML全体の5%に達した要因は何か

日本の売上高は、2026年9月の記者説明会時点でASMLグループ全体の約5%を占めます。Rapidus向けの装置供給に加え、Micron広島へのEUV露光装置導入、産業技術総合研究所（産総研）への高NA EUV露光装置導入など、日本国内でのEUV関連投資が積み上がっていることが背景にあります。

「1台400億円。最先端チップを生む露光装置とASMLの独占」で扱ったように、EUV露光装置はもともと1台数百億円という高額な設備です。日本国内での導入が広がれば、売上比率だけでなく、ASMLジャパンが担うサポート業務の総量も増えていくことになります。

高NA EUVの日本投入はいつになるのか

次世代のHigh-NA EUVについては、産業技術総合研究所への導入が進められている段階にあり、2026年9月時点でRapidusの量産ラインへの本格投入時期は確定していません。まずは2nm世代をEUV露光装置で立ち上げ、その先の世代でHigh-NA EUVへ移行していく見通しです。

ASMLジャパンの増員計画は、この移行を見据えた布石とも言えます。日本国内での装置台数とサポート需要が今後どこまで積み上がるかは、Rapidusの量産進捗と、Micron広島をはじめとする他の顧客の投資動向次第です。

この記事のまとめ

• ASMLジャパンは2026年9月3日、社員数を現在の約500人から2030年度をめどに約700人へ、4割増やす方針を示した。
• 増員200人の大半は、装置の稼働を支えるカスタマーサポート人員が占める見通し。
• Rapidusが2nm量産を本格化する2027年までに、北海道千歳拠点の常駐人員を現在の30人弱から50〜60人規模へ倍増させる計画。
• 日本の売上高は、2026年9月時点でASMLグループ全体の約5%を占める。
• Micron広島へのEUV露光装置導入や、産業技術総合研究所への高NA EUV露光装置導入も進んでおり、日本向けの装置投資が積み上がっている。